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无需EUV光刻机，中科院官宣新技术，国产芯片迎来新局面！

时间：2020-12-18 02:12:19

来源：网络 作者：廉璨升

阅读：174

[摘要] 随着全球半导体行业的发展速度越来越快，全球一线的芯片代工机构，对于EUV（极紫外）光刻机的需求与日递增。目前，全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业，是来自于荷兰的ASML公司。但由于《瓦森纳协定》的相关限制，中国除台积电之外的企业，采购EUV光刻机均是迟迟不能够发货。为了尽快摆脱芯片制造领域的“僵局”，中科院白院长也对外界宣布，将会布局光刻机等尖端制造技术领域，以此来推动国产芯片制造技术的发展。而在近日，中科院一项新技术的官宣，也为国产芯片摆脱EUV光刻机，带来了可能性。

而在近日，中科院一项新技术的官宣，也为国产芯片摆脱EUV光刻机，带来了可能性。

无需EUV光刻机，中科院官宣新技术，国产芯片迎来新局面！

中科院官宣新技术

据悉，中科院旗下的研究所，目前已经研发出了国产的8英寸石墨烯晶圆。在近日举办的国际石墨烯创新大会上，这块8英寸的国产石墨烯晶圆首次对外界展出。

该晶圆基于石墨烯为原材料，可以用于高端芯片的制造。无论是质量还是尺寸，8英寸的国产石墨烯晶圆都达到了业内的先进水平。

无需EUV光刻机，中科院官宣新技术，国产芯片迎来新局面！

与第二代的硅基芯片原材料不同，石墨烯晶圆是第三代半导体技术的关键材料。随着摩尔定律的不断推进，芯片制造技术开发的成本也在成倍增加。在成本和回报不能持平的情况下，硅基芯片将会走向尽头。

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关键词： 光刻机芯片晶圆石墨

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